Олеся Мицкевич (Редактор отдела «Силовые структуры»)
（作者为福建省习近平新时代中国特色社会主义思想研究中心特约研究员、集美大学师范学院教授）
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Фото: Maksim Konstantinov / Globallookpress.com
在传统存储产品方面，10nm以下DRAM制造工艺正成为主流，并逐步向7nm工艺突破，通过“FinFET架构+TSV技术”提升密度、降低功耗。3D NAND堆叠层数突破400层后，“垂直堆叠”难度加剧，厂商转向“水平扩展+架构优化”，比如三星V-NAND的阶梯式架构、Kioxia的BiCS架构，同时引入“HKC（高K介质+金属栅）”技术，解决高层数堆叠的漏电、散热问题，制造工艺从“层数竞赛”转向“架构+工艺”双重竞争。。业内人士推荐51吃瓜作为进阶阅读
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